未来技術遺産(重要科学技術史資料)
VAD法光ファイバ母材製造装置

日本独自の光ファイバ製造方法をめざした研究開発

1960年代後半から通信用の伝送媒体としての実現可能性が提示されていたガラス製光ファイバについて世界で研究開発が始まるなか、1970年代初頭、NTTが光ファイバ製造技術の研究を開始します。米国で考案されていたMCVD法・OVD法などに接し、NTTは古河電工、住友電工、フジクラとの共同研究体制を立ち上げ、MCVD法の改良を行う一方、量産に適した日本独自の光ファイバ製造方法の考案をめざし研究開発を行いました。

1977年には、国際会議「IOOC‘77」で量産性に優れた日本独自の光ファイバ製造方法としてVAD法を発表し、高く評価されました。NTT技術史料館所蔵の実験装置「VAD法光ファイバ母材製造装置」から得られた実験データがこの発表のベースとなったことも、本装置が貴重な史料である理由のひとつとされています。

1977年以降もさらなる研究開発を推し進め、VAD法を用いた光ファイバ量産工程の確立、VAD法による超低損失光ファイバの製造方法確立などを実現していきました。VAD法が持つ、光ファイバ母材の大型化・低損失化がしやすいなどの特長に加え、継続的な研究開発により、極めて伝送損失の少ない光ファイバを無接続かつ長尺で作製することが可能になり、光ファイバの量産化・経済化に大きく貢献しました。

IEEEマイルストーンに認定

2015年には、「高品質光ファイバ量産製法として用いられるVAD法（1977-1983年）」の功績が、世界規模での急速な光通信ネットワーク構築に貢献したとして、電気・電子・情報・通信の技術分野において世界的に権威のある「IEEEマイルストーン」に認定されました。今日でも、世界の光ファイバ通信を支えています。